光电流成像系统(Photon Current Imaging)

所属类别： » 专用实验设备 » 拉曼/PL/光电流 成像系统
所属品牌：韩国Nanobase公司

光电流成像系统(Photon Current Imaging)

          光电流成像、拉曼成像，PL mapping，三合一！

韩国NANOBASE公司专业生产光电流光谱成像系统，为科学和工业领域提供*高性价比光电流成像解决方案。产品具有如下特点：

超高性价比激光扫描光谱成像系统！可做拉曼光谱成像，荧光光谱成像，光电流光谱成像

u  独特的激光扫描技术，具有优异的扫描分辨率和重复性

    激光扫描分辨率< 0.02 um & 重复性< 0.1 μm

u  体相全息光栅光谱仪

    光透过率>90%，比反射式光栅高30%，信号传输效率更高

u  具有Raman/PL/光电流等多种测量模式

u  结构紧凑，模块化设计

u  扫描速度快，扫描范围大

200µm x 200µm范围内高速成像 & 2D Mapping (x 40 objective)

拉曼光谱成像，PL，荧光光谱成像，光电流光谱成像，拉曼 mapping，PL mapping，photocurrent mapping，光电流mapping，荧光mapping

光电流成像系统(Photon Current Imaging)产品参数：

上表是XperRam Compact与某知名公司拉曼光谱仪参数对比

光电流成像系统(Photon Current Imaging)应用实例：

u 光电流成像，大（重）样品测试

扫描成像，载物台无需移动，故而可以放置很重的样品在载物台上，下图是测量带制冷器的碳纳米管的光电流成像，普通拉曼成像系统无法完成此项测试

u 拉曼成像（二硫化钼） 

图（a）样品台上放置的带制冷器的碳纳米管的显微图像

设置为激光扫描区域180um x180µm，步2µm

可任意设置激光扫描范围和扫描步进，激光扫描范围在40倍物镜下*大可达200µm x 200µm，激光扫描步进可低至0.1µm

图(c)二硫化钼样品的显微图像

图(d)二硫化钼的强度mapping成像，设置为激光扫描区域50um x50µm，激光扫描步进 0.3µm

图(e)二硫化钼的强度mapping成像，设置为激光扫描区域30um x30µm，激光扫描步进 0.1µm

图(f)二硫化钼的频率mapping成像，设置为激光扫描区域30um x30µm，激光扫描步进 0.1µm

图（g）单层与多层二硫化钼薄膜拉曼成像与拉曼峰频移

u 荧光PL成像：

使用Nanobase XperRam系列拉曼成像光谱仪发表的部分文献：

（1）   A Van Der Waals Homojunction: Ideal p–n Diode Behavior in MoSe₂.pdf- Advanced Materials

（2）   SemiconductorInsulator Semiconductor Diode Consisting of Monolayer MoS², h‑BN, and GaN Heterostructure.pdf–ACS Nano

光电流成像系统(Photon Current Imaging)

应用领域：

材料学，功能材料，纳米材料，二维材料（石墨烯，二硫化钼等），铁电陶瓷等

生物医学，细胞成像，**检测，皮肤分析等

半导体，太阳能电池和OLED等

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