CVD制备设备 - 上海昊量光电设备有限公司

上海昊量光电设备有限公司
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	石墨烯CVD制备设备	这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、阀均釆用进口设备,性能可靠。控制电跻选用模糊PD程控技术,具有控温精度髙,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。石墨烯CVD制备设备,石墨烯CVD制备设备
	滑动式二硫化钼CVD制备设备	硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下，稳定控制硫蒸汽的蒸发时机和蒸发温度。真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。采用耐腐蚀电阻电容复合真空计（在1000Pa以上测量不受气体种类影响，耐硫蒸气腐蚀），通过调节真空蝶阀的开启程度调节炉管内压力稳定，在1200℃以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。滑动式二硫化钼CVD制备设备,滑动式二硫化钼CVD制备设备

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